# Vết Bẩn PL, Phồng Rộp và Vết Thuyền: Bước Nào > Phân tích kỹ thuật chuyên sâu về cách độ ẩm mùa hè gây ra các khuyết tật thụ động hóa tế bào quang điện như vết ố PL và phồng rộp ![Vết Bẩn PL, Phồng Rộp và Vết Thuyền: Bước Nào](https://cdn.ooitech.com/static/upload/image/20260808/e566f3c774b4a2727579fff5446fffe4.webp) - ** 2026-08-08 - ** 145 Lượt xem - ** [Blog](./Blog.html) ## Vết Bẩn PL, Phồng Rộp và Vết Thuyền: Bước Nào **Câu trả lời nhanh:** Vết ố quang phát quang, phồng rộp và vết thuyền là ba dấu hiệu khuyết tật riêng biệt, và mùa có ảnh hưởng quan trọng: từ tháng Sáu đến tháng Chín, hơn 80% khuyết tật ở cấp tấm wafer trên nhiều dây chuyền đến từ cùng một nhóm nguyên nhân quy trình. Cả ba trông giống nhau trong ảnh độ phân giải thấp nhưng có cách khắc phục hoàn toàn khác nhau. Vết ố PL thường chỉ ra vấn đề nhiễm bẩn hoặc xử lý chứ không phải vấn đề nhiệt. Phồng rộp bắt nguồn từ bước lắng đọng hoặc sấy khô nơi một lớp hình thành không đồng đều. Vết thuyền là dấu hiệu của giá đỡ — vị trí tấm wafer trong thuyền đã tái hiện chính nó trong quy trình. Độ dày các lớp liên quan nằm ở 1 nm, 1,5 nm, 3 nm, 5 nm và 6 nm, đủ mỏng để hiệu ứng bề mặt chiếm ưu thế so với hành vi khối. Thứ tự chẩn đoán nên theo hình dạng khuyết tật, không phải theo thứ tự quy trình. Sản xuất mô-đun PV · bởi Jerry, Ooitech ## Vết bẩn PL, phồng rộp và vết thuyền: Nên kiểm tra bước nào trước? Mỗi năm từ tháng 6 đến tháng 9, hơn 80% nhà máy sản xuất tế bào quang điện đều gặp phải cùng một vấn đề đau đầu. Xưởng được giữ ở nhiệt độ không đổi 25℃, công thức quy trình không thay đổi, lưu lượng khí hoàn toàn bình thường, và đường cong nhiệt độ nằm đúng trong giới hạn thông số. Tuy nhiên, thời gian sống của hạt tải thiểu số sau khi thụ động hóa vẫn tiếp tục giảm. Biến động năng suất thường bị bỏ qua như một hiệu ứng mùa hè mơ hồ. Hướng dẫn này phân tích bốn nguyên nhân gốc rễ có thể hành động, có thể theo dõi và đưa ra các điều chỉnh quy trình thực tế cho mùa hè. ## Bối cảnh vấn đề và Hồ sơ khuyết tật Lấy một trường hợp thực tế từ một nhà máy ở Đông Trung Quốc vào tháng 6 này. Xưởng ổn định ở 25℃, nhưng đồng hồ đo độ ẩm phòng sạch đạt 72%. So với độ ẩm 30% vào mùa đông, con số này cao hơn gấp đôi. Các kỹ sư quy trình nhận thấy thời gian sống của hạt tải thiểu số sau thụ động hóa giảm đồng loạt, từ 2 ms thông thường xuống 1,2 ms. Tệ hơn nữa, các tấm wafer ở đầu và cuối cùng của cùng một ống cho thấy chênh lệch 40% về thời gian sống. Đây không phải là sự cố cá biệt. Bạn có thể kiểm soát nhiệt độ xưởng, nhưng độ ẩm là một vấn đề khác. Một cơn mưa rào mùa hè đột ngột có thể dễ dàng đẩy độ ẩm phòng sạch từ 50% lên 80%. Mỗi bước trong quy trình thụ động hóa đều rất nhạy cảm với độ ẩm này. Thụ động hóa không chỉ là phủ một lớp màng. Hãy nghĩ về nó như một tên lửa hai tầng. Tầng một là quá trình lắng đọng, dựa vào thụ động hóa hóa học từ Al₂O₃ hoặc SiNₓ để bão hòa các liên kết treo, cộng với thụ động hóa hiệu ứng trường để ngăn chặn tái hợp bề mặt. Tầng hai là thụ động hóa hydro. Quá trình nung ở nhiệt độ cao đẩy hydro ra khỏi màng, đẩy nó vào bề mặt silicon và các khuyết tật khối để thụ động hóa bất kỳ liên kết treo nào còn lại. Yếu tố thực sự quyết định chất lượng thụ động hóa cuối cùng của bạn là mức độ giải phóng hydro trong quá trình nung. Hành vi của hydro—từ dạng của nó trong màng đến động học giải phóng và đường khuếch tán—gắn chặt với cả nhiệt độ và độ ẩm. Đó chính xác là lý do tại sao các khuyết tật mùa hè được kích hoạt bởi thay đổi độ ẩm, không phải thay đổi nhiệt độ. ## Bốn đường truyền độ ẩm trong thụ động hóa Hãy chia nhỏ điều này thành bốn đường truyền cụ thể. Xưởng có thể được kiểm soát nhiệt độ, nhưng bốn khu vực này bị ảnh hưởng trực tiếp bởi điều kiện mùa hè. ### Đường 1: Sai lệch Hydro do Nhiệt độ Nước làm mát Buồng PECVD cần làm mát liên tục trong quá trình lắng đọng để duy trì trường nhiệt độ chính xác. Máy làm lạnh thường có bình ngưng đặt trên mái nhà hoặc bên ngoài, sử dụng nước sông hoặc nước giếng hoàn toàn phụ thuộc vào mùa. Vào mùa đông, nhiệt độ ngoài trời khoảng 5–10℃, giữ nước làm mát ổn định ở 20–22℃. Vào mùa hè, nhiệt độ vượt qua 35℃. Hiệu suất máy làm lạnh giảm, và nhiệt độ nước làm mát dễ dàng leo lên 28–30℃. Phòng sạch của bạn có thể vẫn ở 25℃, nhưng nước làm mát ấm hơn đó trực tiếp thay đổi nhiệt độ thành buồng PECVD. Phân bố bức xạ nhiệt thay đổi. Các tấm wafer ở các vị trí khác nhau trong ống trải qua nhiệt độ lắng đọng thực tế hoàn toàn khác nhau. Khoảng cách nhiệt độ giữa các tấm wafer đầu và cuối mở rộng, điều này giải thích chênh lệch 40% lớn trong cùng một lô. Cho dù bạn đang sử dụng ALD cho Al₂O₃ hay PECVD cho SiNₓ, nhiệt độ buồng thay đổi có nghĩa là mật độ màng và hàm lượng hydro sẽ thay đổi. | Nhiệt độ Lắng đọng | Đặc tính Màng | Hành vi Hydro | | --- | --- | --- | | Hơi Thấp | Dày đặc, hàm lượng H cao, chủ yếu N-H/Si-H | Cần nhiệt độ nung cao hơn để giải phóng hoàn toàn | | Hơi Cao | Lỏng lẻo, hàm lượng H cao, liên kết H yếu | Giải phóng quá nhanh, tích tụ tại giao diện | Sản xuất công nghiệp dựa vào một cửa sổ tối ưu rất hẹp cân bằng mật độ màng và hàm lượng hydro. Sai lệch chỉ ±5℃ có thể đẩy bạn ra khỏi cửa sổ đó. Khi nước làm mát mùa hè trở nên quá ấm, toàn bộ trường nhiệt độ buồng thay đổi, và các thông số màng trôi theo. ### Đường 2: Phồng rộp AlOₓ do Lịch sử Nhiệt không khớp Vấn đề này ẩn trong một khoảng thời gian mà hầu hết mọi người bỏ qua. Thiết bị ALD chính thống thường chạy 28–35 chu kỳ cho lắng đọng Al₂O₃, đạt độ dày 4,5–6 nm. Quá trình lắng đọng SiNₓ PECVD tiếp theo xảy ra trong khoảng 400–580℃. Nhiệt độ đó đã đủ nóng để làm hydro bên trong Al₂O₃ di chuyển mạnh mẽ. Nếu tốc độ gia nhiệt và thời gian giữ của PECVD được điều chỉnh đúng, một phần hydro trong Al₂O₃ được giải phóng trơn tru trong giai đoạn gia nhiệt trước này. Phần còn lại vẫn ổn định và giải phóng đúng cách sau đó trong lò nung. Điều kiện mùa hè phá hỏng nhịp điệu này. Thứ nhất, biến động quy trình ALD xảy ra. Lớp Al₂O₃ 5 nm là điểm ngọt cho chi phí và thụ động hóa, nghĩa là hàm lượng hydro tuyệt đối của nó tự nhiên cao. Độ ẩm mùa hè cao có nghĩa là nhiều hydro bị giữ lại trong màng hơn. Thứ hai, lắng đọng SiNₓ PECVD hoạt động như một giai đoạn ủ chính cho Al₂O₃. Nếu gia nhiệt quá nhanh hoặc giữ nhiệt độ cao quá ngắn, hydro không giải phóng đủ. Thứ ba, nhiệt độ nung đạt 700–900℃. Tất cả hydro bị giữ lại đó phun trào cùng một lúc, khuếch tán về phía giao diện Si/Al₂O₃. Nó tạo thành các phân tử khí H₂ và xây dựng áp suất cục bộ khổng lồ. Cuối cùng, khi áp suất vượt quá độ bám dính của màng, phồng rộp xảy ra. Độ ẩm cao -> Nhiều H bị giữ lại -> Giải phóng trước PECVD kém -> Nhiệt độ nung cao = Phồng rộp. Dưới kính hiển vi, bạn sẽ thấy bề mặt wafer phủ đầy các nốt phồng nhỏ có đường kính 2–10 μm. Mỗi nốt phồng đại diện cho một vùng chết nơi thụ động hóa đã biến mất. ### Đường 3: Độ ẩm Nền cao trong Lò ống Đây rõ ràng là đường bị bỏ qua nhiều nhất, nhưng cực kỳ nguy hiểm trong sản xuất mùa hè. Trong thời gian chờ, lò ống PECVD tiếp xúc với khí quyển. Không khí mùa hè đạt 60–80% RH. Ống lò hấp thụ độ ẩm nhiều hơn so với mùa đông. Khi bạn hút chân không và gia nhiệt để lắng đọng, độ ẩm bị giữ lại đó giải hấp và trộn với khí quy trình của bạn. Độ ẩm nền này hoàn toàn làm hỏng lắng đọng SiNₓ theo ba cách: 1. Sự trôi dạt chiết suất: SiNₓ cần chiết suất nghiêm ngặt 2.05–2.10 để kiểm soát hấp thụ ánh sáng và passivation. Độ ẩm nền thay đổi tỷ lệ Si/N. Độ ẩm mùa hè có thể dễ dàng làm chiết suất giảm xuống dưới 2.05, phá hủy chất lượng passivation của bạn. 2. Liên kết hydro bị thay đổi: H⁺ trong hơi nước cạnh tranh với các liên kết Si-H và N-H trong SiNₓ. Nó làm rối loạn cách hydro giải phóng trong quá trình nung sau này. 3. Độ sạch giao diện bị suy giảm: Độ ẩm tạo thành lớp Si-OH siêu bền trên bề mặt wafer khi bắt đầu lắng đọng. Điều này phá hủy liên kết giữa silicon và Al₂O₃ hoặc SiNₓ, ngay lập tức làm tăng mật độ bẫy giao diện. ### Dây chuyền 4: Khoảng trống Q-Time ẩn trước khi oxy hóa xuyên hầm Vấn đề này xảy ra sớm trong dây chuyền, ngay sau khi đánh bóng kiềm và trước khi lắng đọng oxide xuyên hầm. Silicon trần tiếp xúc với không khí sẽ phát triển một lớp oxide tự nhiên, và tốc độ phát triển đó phụ thuộc hoàn toàn vào độ ẩm và nhiệt độ môi trường. Ở 25℃ và độ ẩm tương đối 80%, silicon trần phát triển một lớp oxide tự nhiên dày 1 nm chỉ trong một giờ. Nếu lỗi thiết bị hoặc chậm trễ lịch trình khiến những wafer đó nằm trong phòng sạch hai hoặc ba giờ, lớp tự nhiên đó có thể đạt 1.5 nm hoặc dày hơn. Lớp oxide tự nhiên này lỏng lẻo và đầy khuyết tật. Khi bạn cố gắng phát triển lớp oxide xuyên hầm chất lượng cao 1.2–1.5 nm lên trên nó, hai lớp kết hợp lại. Bây giờ lớp xuyên hầm của bạn dày 2–3 nm—gấp đôi thông số thiết kế, với chất lượng cấu trúc tồi tệ. Điều này kích hoạt một phản ứng dây chuyền khắc nghiệt. Lớp xuyên hầm quá dày chặn sự xuyên hầm electron. Trong quá trình pha tạp polysilicon, phốt pho gặp khó khăn để khuếch tán qua rào cản dày này. Những vùng lớp xuyên hầm quá mỏng bị pha tạp quá mức, gây tái hợp auger và giảm thời gian sống, biểu hiện dưới dạng vết mờ tối trong kiểm tra PL. Những vùng quá dày bị pha tạp thiếu, làm tăng điện trở tiếp xúc. Điều này gây ra các cạnh tối xung quanh dấu thuyền trong kiểm tra EL. Cuối cùng, điện áp mạch hở (Voc) của bạn giảm mạnh trên toàn bộ lô. ## Tóm tắt nguyên nhân gốc: Bốn sự truyền dẫn, không phải một lỗi đơn lẻ Các vấn đề passivation mùa hè không mới, nhưng các kỹ sư lãng phí thời gian kiểm tra menu và lưu lượng khí vì họ tìm kiếm một điểm lỗi duy nhất. Nguyên nhân gốc là độ ẩm phá vỡ toàn bộ chuỗi. Nước làm mát tăng làm thay đổi nhiệt độ buồng. Độ ẩm môi trường cao làm tăng hàm lượng hydro và gây phồng rộp. Độ ẩm lò chờ làm hỏng chiết suất SiNₓ. Xử lý chậm trễ để oxide tự nhiên phát triển ngoài tầm kiểm soát, gây vết mờ PL và dấu thuyền. ## Đề xuất kiểm soát quy trình mùa hè có thể hành động Đây là cách khắc phục tại xưởng. Thứ nhất, giám sát nước làm mát của bạn. Theo dõi nhiệt độ đầu vào và chênh lệch nhiệt độ, không chỉ nhiệt độ buồng. Nếu nước làm mát vượt 24℃, kiểm tra máy làm lạnh ngay lập tức và bù thủ công bằng công suất PECVD hoặc thời gian lắng đọng nếu cần. Gắn điểm sương phòng sạch của bạn với giám sát hàng ngày. Thứ hai, điều chỉnh công thức ALD cho mùa hè. Tăng nhẹ nhiệt độ lắng đọng ALD trong khoảng 180–300℃, hoặc kéo dài thời gian xả. Điều này làm màng dày đặc hơn và giảm hàm lượng hydro ban đầu, ngăn ngừa phồng rộp sau này. Ngoài ra, kéo dài tốc độ gia nhiệt hoặc thời gian giữ trong quá trình lắng đọng SiNₓ PECVD để cho hydro nhiều thời gian giải phóng trơn tru hơn. Thứ ba, nung lò ống của bạn thường xuyên hơn. Chạy nung ngắn 500℃ trong 15 phút mỗi 4 giờ trong chế độ chờ để đẩy độ ẩm hấp thụ ra ngoài. Nếu có thể, duy trì xả N₂ áp suất dương nhẹ trong chế độ chờ. Thứ tư, xây dựng một công thức cơ sở passivation mùa hè chuyên dụng. Đừng đoán. Chuẩn bị sẵn một bộ thông số ALD và PECVD để hoán đổi khi độ ẩm vượt ngưỡng cụ thể. Thứ năm, kiểm soát nghiêm ngặt Q-time của bạn. Wafer phải đi từ đánh bóng kiềm đến lò oxy hóa trong vòng dưới một giờ. Nếu có chậm trễ, lưu trữ chúng trong tủ nitơ độ ẩm thấp. ## Danh sách kiểm tra nhanh passivation mùa hè | STT | Mục kiểm tra | Mục tiêu kiểm soát | Người phụ trách | | --- | --- | --- | --- | | 1 | Nhiệt độ nước làm mát | Theo dõi hàng ngày, cảnh báo nếu vượt ngưỡng | Thiết bị/Cơ sở hạ tầng | | 2 | Điểm sương phòng sạch | Tuân thủ nghiêm ngặt giới hạn cơ sở | Cơ sở hạ tầng | | 3 | Nung lò ống | Nung ngắn mỗi 4 giờ chờ | Kỹ sư quy trình | | 4 | Q-time từ đánh bóng đến Ox | Dưới 1 giờ | Đội sản xuất | | 5 | Công thức ALD/PECVD | Chuyển sang cơ sở mùa hè định trước | Đội quy trình | ## Quan điểm của Ooitech Độ ổn định thiết bị cũng quan trọng như công thức quy trình khi độ ẩm theo mùa tăng đột biến làm gián đoạn xưởng sản xuất. Các nhà máy thường xuyên đối mặt với sụt giảm năng suất chỉ vì độ ẩm môi trường thay đổi lịch sử nhiệt và động lực hydro của các lớp passivation. Giải quyết những biến số ẩn này—như hiệu suất máy làm lạnh, Q-time khí quyển, và giải hấp độ ẩm chờ—tạo ra sự khác biệt lớn trong việc duy trì hiệu suất pin nhất quán. Nắm vững các kiểm soát môi trường tinh tế này là điều phân biệt một cơ sở sản xuất tấm pin mặt trời trung bình với một dây chuyền sản xuất tối ưu hóa thực sự, năng suất cao. --- ##### Thẻ : ![](/template/ooitech/assets/img/shape/06.png) ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h700_fitblur_v2_w800_h700_fitblur_v2_1757399770541443.webp) ### Yêu cầu báo giá Tất cả tải lên đều an toàn và bảo mật. ## Chúng tôi cung cấp chuyên môn bạn có thể tin tưởng dịch vụ của chúng tôi Thiết bị trực tiếp từ nhà máy. ![](/template/ooitech/assets/img/icon/money-2.svg) ### Lợi thế tiết kiệm chi phí Chúng tôi mang lại giá trị vượt trội, tối đa hóa kết quả trong khi tối ưu hóa ngân sách cho khách hàng. ![](/template/ooitech/assets/img/icon/staff.svg) ### Đội ngũ giàu kinh nghiệm của chúng tôi Các chuyên gia lành nghề của chúng tôi chuyên về các giải pháp sáng tạo và chiến lược phù hợp. ![](/template/ooitech/assets/img/icon/certified.svg) ### Hơn 15 năm kinh nghiệm trong ngành Chuyên môn sâu đảm bảo kết quả đáng tin cậy, nắm bắt xu hướng và đã được chứng minh để thành công. ![](https://cdn.ooitech.com/static/upload/image/20250910/1757477357667605.webp ) ![](https://cdn.ooitech.com/static/upload/image/20250910/1757477724911512.webp) ![](/template/ooitech/assets/img/shape/06.png) ## Khách hàng của chúng tôi nói gì về chúng tôi Các đánh giá từ khách hàng ca ngợi sự hiểu biết sâu sắc của chúng tôi về những thách thức của họ, dẫn đến các giải pháp sáng tạo và ROI mạnh mẽ. Các hợp tác lâu dài—một số hơn một thập kỷ—chứng minh sự tin tưởng và hài lòng của họ. Những câu chuyện thành công của họ thúc đẩy chúng tôi không ngừng vượt qua mong đợi. [Tìm hiểu thêm **](#quote-form) ![](/template/ooitech/assets/img/icon/quote.svg) Cảm ơn bạn rất nhiều lần nữa vì sự giúp đỡ rất lớn trong việc cải thiện và sửa chữa nhà máy cũng như dạy công nhân cách sử dụng máy móc ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1757479675272137.webp) ### Mark BIPV Philippines ![](/template/ooitech/assets/img/icon/quote.svg) Một người đàn ông có tâm hồn lớn. Cảm ơn ông Wu rất nhiều vì đã đến thăm. Cảm ơn rất nhiều vì những dịch vụ được cung cấp trong việc lắp đặt thiết bị và đào tạo học viên của tôi. Người tử tế nhất và chuyên nghiệp trong lĩnh vực của mình ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_2026041716444445.webp) ### Viện Bách khoa Jizzakh ![](/template/ooitech/assets/img/icon/quote.svg) cảm ơn sự hỗ trợ chuyên nghiệp và dịch vụ sau bán hàng đúng hạn của ooitech. ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1784509010217979.webp) ### Diarra từ Châu Phi ![](/template/ooitech/assets/img/icon/quote.svg) Cảm ơn Ooitech đã cung cấp thiết bị thí nghiệm pin mặt trời BC rất phù hợp. ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1776426122864564.webp) ### KTECH ![](/template/ooitech/assets/img/icon/quote.svg) Cảm ơn Ooitech đã cung cấp thiết bị sản xuất hoàn toàn tự động—dịch vụ lắp đặt và sau bán hàng của bạn rất xuất sắc. ![](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_2026041720921238.webp) ### Amjad ## Sản phẩm mới nhất của chúng tôi ![Máy cắt laser pin mặt trời không phá hủy](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1774252043927784.webp) - [** ooitech](./GYM-HP8000-Non-Destructive-Solar-Cell-Laser-Cutting-Machine-Advanced-TCS-Technology-for-High-Efficiency-Cell-Production.html) - [** 47145](./GYM-HP8000-Non-Destructive-Solar-Cell-Laser-Cutting-Machine-Advanced-TCS-Technology-for-High-Efficiency-Cell-Production.html) ### Máy cắt laser pin mặt trời không phá hủy Máy cắt laser pin mặt trời không phá hủy chuyên nghiệp GYM-HP8000 với công nghệ TCS, đạt công suất 7600pcs/h, tỷ lệ vỡ 0.03% ![Máy kiểm tra IV ST-TLD3A+ – Flash & hiệu suất mô-đun PV](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1774514799764615.webp) - [** Rachael](./Solar-Panel-IV-Tester-ST-TLD3A-SMTL-V21-3A-Professional-PV-Module-Testing-Equipment.html) - [** 38128](./Solar-Panel-IV-Tester-ST-TLD3A-SMTL-V21-3A-Professional-PV-Module-Testing-Equipment.html) ### Máy kiểm tra IV ST-TLD3A+ – Flash & hiệu suất mô-đun PV Máy kiểm tra IV năng lượng mặt trời ST-TLD3A+ / SMTL-V21.3A+ – phổ A+, kiểm tra mono, poly, TOPCon, HJT, IBC & màng mỏng. Đường cong I-V/P-V chính xác cho toàn bộ mô-đun ![Máy kiểm tra pin mặt trời OTCT-A: IEC 60904-9, Cấp A](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_2026032746397289.webp) - [** Rachael](./OTCT-A-Solar-Cell-Tester-High-Precision-Electric-Performance-Testing-Equipment.html) - [** 16341](./OTCT-A-Solar-Cell-Tester-High-Precision-Electric-Performance-Testing-Equipment.html) ### Máy kiểm tra pin mặt trời OTCT-A: IEC 60904-9, Cấp A Máy kiểm tra tế bào mặt trời OTCT-A – đèn xenon phổ cấp A, thu thập 4 kênh 16-bit, IEC60904-9:2020. Đo đường cong IV chính xác cho mono & ![Mô phỏng năng lượng mặt trời GIV: Cấp A+, độ bất ổn định <1%](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1774508988152657.webp) - [** Rachael](./gsolar-solar-panel-tester-sun-simulator-giv-20a2616-a-a-a-class-solar-module-iv-tester.html) - [** 13545](./gsolar-solar-panel-tester-sun-simulator-giv-20a2616-a-a-a-class-solar-module-iv-tester.html) ### Mô phỏng năng lượng mặt trời GIV: Cấp A+, độ bất ổn định Máy kiểm tra tấm pin mặt trời và mô phỏng ánh sáng mặt trời Gsolar GIV-20A2616 loại A+A+A+ với diện tích kiểm tra 2600mm x 1600mm, thời gian xung dài 10ms-100ms ![Máy kiểm tra IV mô-đun năng lượng mặt trời XJCM-13A+: Loại A+, 25s](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1774506523267868.webp) - [** Rachael](./XJCM-13A2615-High-Efficiency-Solar-Module-IV-Tester-Advanced-Testing-Solution-for-PERC-HJT-TopCon-IB.html) - [** 67421](./XJCM-13A2615-High-Efficiency-Solar-Module-IV-Tester-Advanced-Testing-Solution-for-PERC-HJT-TopCon-IB.html) ### Máy kiểm tra IV mô-đun năng lượng mặt trời XJCM-13A+: Loại A+, 25s Máy kiểm tra IV XJCM-13A2615 – A+A+A+, 2600×1500mm, xung 10–100ms cho PERC, HJT, TOPCon & IBC. Loại bỏ hiệu ứng điện dung. Tuân thủ IEC 60904-9:2020. ![Máy cắt & trải trực tuyến EVA/TPT GC-1500](https://cdn.ooitech.com/runtime/image/w800_h600_fitblur_v2_1774350387657887.webp) - [** Rachael](./gc-1500-eva-tpt-online-cutting-and-laying-machine-automatic-solar-panel-eva-backsheet-cutter-ooitech.html) - [** 37294](./gc-1500-eva-tpt-online-cutting-and-laying-machine-automatic-solar-panel-eva-backsheet-cutter-ooitech.html) ### Máy cắt & trải trực tuyến EVA/TPT GC-1500 Máy cắt & trải trực tuyến EVA/TPT GC-1500 của Ooitech có tính năng tự động cắt và trải EVA, POE và tấm lưng cho sản xuất tấm pin mặt trời